近日，據科技媒體《The Information》引述消息透露，中國一家具官方背景的半導體設備企業已開始小批量製造自主研發的浸潤式深紫外光（浸潤式 DUV）光刻機/曝光機，並預計於今年（2026年）陸續交付予中芯國際（SMIC）、華虹半導體（Hua Hong）及長鑫存儲（CXMT）等中國本土晶片巨頭試用。此消息曝光後，震撼全球半導體板塊，荷蘭設備大廠 ASML 股價一度大跌逾 8%（美股 ADR 下跌 5.8% 至 1,655.26 美元），帶動美國與歐洲半導體設備股全面下挫。
這項消息反映出中國在面對美日荷出口管制封鎖下，自主研發關鍵半導體設備的最新進展。然而，這是否意味著 ASML 長期壟斷光刻機市場的地位即將被打破？以下從市場反應、中國的優勢與瓶頸，以及ASML 的護城河與未來格局進行深度解析：
市場震撼與連鎖反應：股價重挫反映對中國營收依賴
消息釋出後，全球晶片設備股應聲走弱，費城半導體指數重挫逾 2%。其中，歐美半導體設備業者跌幅最為顯著：
ASML（荷蘭）： 荷蘭掛牌股票重挫逾 8%，美股 ADR 亦下跌 5.80%（收於 1,655.26 美元，單日重挫 101.83 美元）。
歐系供應鏈： ASM 國際與貝思半導體（BE Semiconductor）分別重挫 7.1% 與 9.7%。
美系設備三雄： 應用材料（Applied Materials）、科林研發（Lam Research）與科磊（KLA）股價均大幅收低。
恐慌根源：高比例的中國營收
市場之所以敏感，主因在於半導體設備大廠對中國市場仍有相當高比例的營收依賴：
科林研發（Lam Research）： 中國營收占比高達 35%。
應用材料（Applied Materials）： 中國營收占比約 30%。
ASML： 中國營收占比約 20%（2024 年高峰時曾高達 41%）。
中國自研 DUV 的優勢與戰略戰術
在美國封鎖極紫外光（EUV）出口，且考慮進一步收緊對浸潤式 DUV 設備保修與組件出口的形勢下，中國強推國產 DUV 具備以下戰略優勢：
-
國家級資源挹注與場景閉環：
由官方背景企業主導，獲得資金與政策的全面傾斜。中芯國際、華虹與長鑫存儲等一線廠直接接軌測試，讓國產設備能在真實生產線中獲得大量實機運轉數據，加速迭代。
-
保障成熟與次先進製程的底線：
浸潤式 DUV（如 1980nm 級別）結合多重曝光（Multi-Patterning）技術，能支撐 7nm 甚至 5nm 製程生產。對中國而言，國產 DUV 能保障邏輯晶片與 DRAM 記憶體基礎產能擴充不被「卡脖子」。
-
EUV 研發同步推進：
除了 DUV 進入交付外，報導指出中國亦在積極自研國產 EUV，目前已進入原型機測試階段。
中國國產 DUV 面臨的巨大瓶頸與挑戰
儘管取得破局突破，但客觀來看，國產 DUV 距離大規模商業量產仍面臨嚴峻考驗：
| 對比項目 | 中國國產 DUV 發展現況 | ASML 產業龍頭現況 |
| 產能規模 | 極低： 2026年預估僅約 5 台；2027年目標提高至 20 台。 | 極高： 目前年產約 130 台浸潤式 DUV，規劃 2027-2028 年產能再擴大 60%。 |
| 性能與良率 | 在光學套刻精度（Overlay）、光源穩定度與產能（WPH）上仍落後 ASML，商業運轉前需大量測試。 | 技術成熟度極高，支援高晶圓產額（>250 WPH）與極高良率。 |
| 零件供應鏈 | 頂級鏡頭組、雙工件台、雷射光源等核心零組件仍需依賴國內供應鏈磨合。 | 結合蔡司（Zeiss）等全球數千家頂級供應鏈，擁有極深的專利防禦網。 |
ASML 的壟斷地位是否會被打破？
結論：短期（3-5年）內無法打破；長期（5-10年）中國市場呈現「去美化雙軌制」。
1. 短期（3-5年）：ASML 龍頭地位無虞，市場屬「過度反應」
摩根大通（JPMorgan）分析師 Sandeep Deshpande 觀點：
小摩分析師指出，中國多年來一直有能力生產較低階的曝光設備，但至今未對 ASML 在前段晶圓製造的市占率造成實質威脅。ASML 在技術能力與量產規模上擁有些微難以跨越的領先優勢，這次賣壓主要由市場情緒驅動，而非 ASML 基本面惡化。
ASML 已提早降低中國風險：
ASML 來自中國的營收占比已自 2024 年的 41% 降至 2025 年的 33%，2026 年第 2 季更已降至 14%。加上全球 AI 浪潮爆發帶動中國以外市場對高階 DUV 與 EUV 的需求大增，ASML 的營收結構已轉趨健康。
2. 長期（5-10年）：全球半導體設備市場將趨向「雙軌化」
中國市場的國產替代： 隨著中國自主設備性能逐漸穩定，ASML 在中國市場的長期營收與市占率確實面臨下滑風險。國產 DUV 將逐步滿足中國本土成熟製程與部分次先進製程的需求。
全球高階市場依賴 ASML： 在中國以外的全球高階晶片供應鏈（台積電、三星、英特爾等），ASML 憑藉強大的 EUV 與 High-NA EUV 技術，依然保持近乎 100% 的不可替代獨霸地位。
中國國產浸潤式 DUV 的試產交付是半導體設備自主化的里程碑，也預告了半導體供應鏈「地緣政治碎片化」的趨勢不可逆。然而，受限於產能規模（今年僅 5 台 vs ASML 年產 130 台）與技術可靠性差距，ASML 在全球光刻設備市場的壟斷地位在可預見的未來依舊穩如泰山。
▲DUV對於半導體產業的重要性
